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  ■用途:

    RP-7型電路板光繪膠片是我公司自主研發的、適合于激光波長為630—670nm的氦氖激光和紅激光二極管曝光光源的光繪機,專為電路板制作設計的光繪膠片。本產品具有良好的尺寸穩定性、感光度適中、顯影適應性強、線條再現性良好、適合高溫快速加工等特點。

 

  ■主要性能特點:

    應用尺寸穩定性良好、厚度為7mil(0.175mm)的聚酯片基;

    藥膜面不帶磨砂,可消除磨砂顆粒在乳劑層中引起的針孔等缺陷;

    高反差、高分辨率、底灰小、高密度;

    線條再現性好、清晰度高;

    優良的防靜電和防灰塵技術;

    適應各種陶藥的高溫快速加工,最快顯影時間可達25秒左右;

    暗室上片。

 

  ■規格(英寸):

  

  ■包裝:

    散葉片盒裝。

 

  ■啟封與安全燈:

    本膠片應在全黑或暗綠燈條件下啟封和應用,暗綠色安全燈距離膠片應不少于1.5米,同時避免直射。使用時應小心因摩擦、折疊、油漬、指紋等因素造成膠片的損害。

 

  ■曝光:

    曝光量是由光繪機特性和顯影加工條件共同決定的,最佳的曝光量必須根據不同型號的光繪機通過不同的曝光實驗測試,從而獲得最佳的曝光量,同時由于顯影時間和溫度對圖像的品質也有很大的影響,因此,在調整光繪機曝光量時,也要對顯影溫度和時間進行適當微調,以確保在特定曝光量條件下獲得高品質的圖像。RP-7光繪在曝光之后應盡快沖洗。

 

  ■尺寸穩定性:

    它是指感光材料由于濕度和溫度的變化以及由于沖洗和老化引起的尺寸變化。

    RP-7膠片使用0.175mm厚度聚酯片基,隨著環境溫、濕度的變化,膠片的尺寸可在長度和寬度方向上也會有一定的變化。

   

       尺寸的穩定性參數

       a)溫度改變影響0.00016%/℃     b)濕度改變影響0.001%/%RH

 

  ■沖洗加工性:

    采用633nm激光曝光,使用指定的HG-2000套藥,溫度控制在32-35℃,時間為30秒。

 

   

     推薦顯影加工條件(可根據最大密度要求適當調整顯影時間):

   

     膠片的干燥溫度以40-50℃最佳,超過50℃時會增加底灰密度、膠片尺寸變化等弊病。

     本產品推薦使用華光HG-2000HG-963型套藥,也可使用愛比西、太行、科藝等其它品牌的顯影套藥。

     備注:水洗時盡量使用循環水,以免水洗不徹底使膠片長時間放置時變黃。

 

   ■儲存:

     干冷保存,儲存溫度應低于20℃,相對濕度小于65%。

     濕熱保存將會縮短膠片的保質期和使用壽命、膠片的收縮率增加等。

     避免受放射性或其它有害物質的侵蝕。

 

   ■保質期:

     十八個月 

 

   ■執行標準:

     HG/T2172-2003

 

 

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